חיובי נ.ב. PLATE
מוצר זה מתאים לתוסף תמיסת מזרקה להדפסה סיבובית של מברשת, מסורתית, טורבינה וריסוס.
מִפרָט
סוג : צלחות PS חיוביות
רגישות ספקטרלית : 320-450 ננומטר
משך חשיפה : 30 שניות, בערך, 20 פולסים (מנורת לודין-גליום 3 קילוואט, מרצועת בקרה UGRA PCW82 באורך 1 מטר, החלק השלישי מסיר דיו
*משך הזמן משתנה בהתאם לתנאי ההדפסה ולחומרים שלו.
זמן פיתוח : 20-40 שניות
פתרון מפתח : מים = 1：7，23±2℃
רזולוציה : 2~98%
עובי : 0.15/0.20/0.25/0.30/0.40 מ'מ (ניתן להתאמה אישית)
גודל : מפרטים אחרים יכולים להיות מותאם אישית לפי דרישות הלקוח
*אורך הריצה משתנה בהתאם לתנאי ההדפסה ולתוכן ההדמיה.
חיובי נ.ב. יתרונות הצלחת
1. צלחת אלומיניום באיכות גבוהה באמצעות לוח שחיקה אלקטרוליטי, חמצון אנודי ותהליכים נוספים.
2. משטח צלחת PS חיובי למצב גרנולציה, יכול לקצר את זמן הוואקום, להפחית את אזור החשיפה והילה של אזור ללא חשיפה (הדפסה).
3. מתאים לתצוגת מכונה, תצוגת יד, עיבוד תצוגת חריץ.
4. הפחתת נקודות, זיקה טובה לדיו, אורך ריצה גבוה.
5. חומרי גלם באיכות גבוהה.
6. רשת חול אחידה, איזון טוב של דיו מים, הפחתת נקודות טובה
7. שכבת תחמוצת צפופה - אורך ריצה גבוה.
8. סובלנות גדולה - קל לתפעול, התאמה לסביבת הדפסה.
נוֹהָג:
חשיפה ( שריפת צלחת )
אור בוער צלחת: אור ביתי יוד כמקור האור המתאים ביותר: בשל מקורות האור השונים, זמן החשיפה לצלחות יהיה שונה, החשיפה המומלצת בטבלה היא רק טווח; כאשר משתמשים באותה גרסה, זמן החשיפה הוא 20 % יותר מזמן החשיפה הרגיל, מומלץ לעדכן את השפופרת.
סרט : על מנת להבטיח את איכות ההדפסה, מומלץ להדפיס בצפיפות הסרט של 3.5 ומעלה.
זמן חשיפה: בקנה מידה אפור STOUFFER21 (דרגה.015) או רצועת בקרה UGRA PCW82 מונח על קצה הצלחת, מתחת לסרט, חשוף ופותח כראוי בתנאים מומלצים. הסקאלה האפורה של רמת החשיפה השלישית היא החשיפה הטובה ביותר של גרסה חיובית, הרמה התשיעית של החשיפה היא הגרסה השלילית של החשיפה; או כאשר 10 - 15 מ' המיקרו קווים ברצועת הבקרה אינם ניתנים להפסקה, הקו החיובי יגבר והקו השלילי יגבר.
מתפתח
פתרון פיתוח: השתמש במפתח מסוג huaguang PO (לצלחת חיובית) ובמפתח מסוג huaguang ND-II (לצלחת שלילית).
סם פתרון מתפתח: כאשר מתפתח חיובי, נפח תרכיז: מים = נפח 1:6 ∽ 1:8 מתפתח שלילי, נפח תרכיז: נפח מים = 1;2.
יציבות מתפתחת: 23 ℃ + 2 ℃.טמפרטורה גבוהה תגרום להפחתת נקודות הצלחת, במקביל, מה שמפחית את סיבולת ההדפסה; אם הטמפרטורה נמוכה מדי, יכולת הפיתוח אינה מספקת.
זמן פיתוח: זמן הפיתוח אינו עולה על דקה.
ריגוש
צלחת חיובית באמצעות מחק תמונה של huaguang PI.
צלחת שלילית באמצעות huaguang NI רוצה מחק תמונה.
על מנת להעלים את התמונה המיותרת על הלוח לאחר שטיפת פיתוח, ניתן למרוח כמות קטנה של מסיר תמונה על החלק המיועד לביטול, וזמן השהייה שלו לא יעלה על 45 שניות.
ציפוי
לאחר הפיתוח והשטיפה, הפריסה צריכה להיות מצופה בשכבה דקה של מסטיק צלחת. יש להמליץ על הריכוז והמינון של דבק מגן על ידי יצרן מסטיק הצלחת.
ב אקינג
דבק צלייה: יש לבחור בדבק צלייה איכותי
זמן צלחת אפייה: 5 ∽ 10 דקות
טמפרטורת הגרסה האפויה: 220 ∽ 420
על צלחת האפייה להיות מומלצת בהחלט טמפרטורה וזמן פעולה, הזמן קצר מדי, הטמפרטורה נמוכה מדי כדי להשיג את אפקט צלחת האפייה; הזמן ארוך מדי, הטמפרטורה גבוהה מדי ישפיע ברצינות על ביצועי הצלחת, ב במיוחד, לא רק את מידת שינוי הצבע לשפוט את קצה צלחת האפייה.
